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Equipment List In Stock
Shanghai Vastity Electronics Technology Co.,Ltd.      
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No. From Description Name Model  Origin Vintage Manufacturer S/N Size
1 CANON Implanter 离子注入机 NV-GSD-A-80 日本 1994年 Sumitomo  Eaton Nova 131 6"
2 PANASONIC Implanter 离子注入机 NV-GSDⅢ-90 日本 1999年 Sumitomo  Eaton Nova 215 6"
3 ROHM Implanter 离子注入机 NVGSD III(可能没有) 美国 1997年 EATON SED  GSDIII 10 6"
4 ROHM Implanter 离子注入机 NH-20SR 日本 1989年 日新NISSIN   6"
5 ROHM Implanter 离子注入机 NH-20SR 日本 1989年 日新NISSIN   6"
6 FUJITSU Implanter 离子注入机 E500 美国 1996年 Varian 0037279 8"
7 ROHM Stepper  光刻机 NSR-2005i8A 日本 1992年 Nikon 803164 6"
8 Onsemi Stepper  光刻机 PLA-501FA 日本 1996年 Canon   5"
9 SONY Lithography 光刻机 PLA600 日本 1996年 Canon 90080502 2"3"
10 ROHM Etcher 干法刻蚀机 TE-5000S 日本 1993年 TEL 5K3311 6"
11 ROHM Etcher 干法刻蚀机 TE-5000S 日本 1993年 TEL 5K3342 6"
12 ROHM Etcher 干法刻蚀机 CDE-7-3A 日本 1989年 Shibaura 903B-06 6"
13 ROHM Etcher 干法刻蚀机 CDE-7-3A 日本 1989年 Shibaura 903B-05 6"
14 ROHM Etcher 干法刻蚀机 TE480HGC 日本 1989年 TEL 490364 6"
15 ROHM Etcher 干法刻蚀机 TE480HGC 日本 1989年 TEL 490365 6"
16 ROHM Etcher 干法刻蚀机 M-308AT 日本 1993年 日立制作所 93E1437240 6"
17 ROHM Etcher 干法刻蚀机 MAS-801 日本 1990年 Alcan Tech 81030 6"
18 ROHM Etcher 干法刻蚀机 MAS-801 日本 1990年 Alcan Tech 81026 6"
19 ROHM Etcher 干法刻蚀机 MAS-801 日本 1990年 Alcan Tech 81031 6"
20 ROHM Etcher 干法刻蚀机 MAS-801 日本 1990年 Alcan Tech 81029 6"
21 ROHM Etcher 干法刻蚀机 μASH8100 日本 1997年 Shibaura   6"
22 PANASONIC Etcher 湿法刻蚀机 RST-201J(可能没有) 奥地利 2000年 Semiconductor-Equipment Co., Ltd. J017 6"
23 MITSUMI Etcher 干法刻蚀机 LAM4500 美国 1995年 LAM RESEARCH 5055 5"
24 MITSUMI Etcher 干法刻蚀机 LAM4500 美国 1994年 LAM RESEARCH 5074 5"
25 MITSUMI Etcher 干法刻蚀机 LAM4500 美国 1994年 LAM RESEARCH 5134 5"
26 PANASONIC Scrubber 刷片机 SS-W80A-AV(可能没有) 日本 1997年 DAINNIPPON SCREEN MFG. CO.,LTD. 57700-2278 6"
27 ROHM UV BAKE 紫外线固胶机 UMA-802-HC551RM 日本 1994年 USHIO INC. 937002 6"
28 ROHM UV BAKE 紫外线固胶机 UMA-802-H55RM 日本 1989年 USHIO INC. 892004 6"
29 ROHM UV BAKE 紫外线固胶机 UMA-802-H55RM 日本 1989年 USHIO INC. 892003 6"
30 ROHM Reticle Inspection 掩膜版测试仪 MAC-92CV 日本 1997年 TOKYO KOKUKEIKI K.K 3012 6"
31 ROHM RTA 快速退火炉 Heatpulse 610 美国 1991年 AG ASSOCIATES 8911320-05 6"
32 ROHM RTA 快速退火炉 4100S 美国 1994年 AG ASSOCIATES 1C95199 6"
33 ROHM OVEN 烘箱 DI-200H-AR 日本 1995年 DAN SCIENCE CA1K40 6"
34 ROHM Developer 显影机 SD-W60A-AVPE 日本 1993年 DAINIPPON SCREEN MFG.CO.,LTD. 53700-6397 6"
35 ROHM Developer 显影机 Mark-II 日本 1989年 TEL 291035 6"
36 ROHM Developer 显影机 Mark-II 日本 1989年 TEL 291037 6"
37 ASAHI Developer 显影机 MARK-Vz 日本 1995年 TEL 615278 6"
  ASAHI Developer 涂胶机 MARK-Vz (3C)(备件机) 日本 1995 TEL 615278 6"
38 ROHM Coater 涂胶机 SCW-60A-AV 日本 1993年 DAINIPPON SCREEN MFG.CO.,LTD. 53700-6370 6"
39 ROHM Coater 涂胶机 MARK-V 日本 1994年 TEL 614106 6"
40 SAMSUNG Coat/Deve  涂胶显影机 MSX1000 韩国 2006年 SVS C000009 6"
41 TOSHIBA Coat/Deve  涂胶显影机 MARK-V(1C1S2D) 日本 1992年 TEL 522760 6"
42 ROHM SOG 旋转涂膜机 SCW-622-BV 日本 1989年 DAINIPPON SCREEN MFG.CO.,LTD. 88700-4029 6"
43 ASAHI Asher 去胶机 μASH8100 日本 1996年 Shibaura ATP003140 6"
44 RENESAS Asher 去胶机 DES-212-258AV 美国 1984年 Plasma System Corp. 84038-84/7 6"
45 TOSHIBA Asher 去胶机 DES-212-304AV 美国 1990年 Plasma System Corp. 84077-85/4-2 6"
46 TOSHIBA Asher 去胶机 DES-212-304AV 美国 1990年 Plasma System Corp. 84077-85/4-3 6"
47 TOSHIBA Asher 去胶机 DES-212-304AV 美国 1990年 Plasma System Corp. 84077-85/4-8 6"
48 TI Asher 去胶机 DES-212-304AVⅢ 美国 2001年 Plasma System Corp. 88051 6"
49 ROHM CVD 化学气相淀积设备 Concept One 美国   NOVELLUS 97-38-3035 6"
50 SAMSUNG CVD 化学气相淀积设备 5000PLATFORM 美国 1995年 Applied Materials 4683 6"
51 ROHM LPCVD 低压化学气相淀积设备 USC-6·C-2·2-6 日本 1989年 DENKO SYSTEMS INC. 821-1030 6"
52 ROHM LPCVD 低压化学气相淀积设备 USC-6·C-1·3-4 日本 1989年 DENKO SYSTEMS INC. 821-103C 6"
53 ROHM LPCVD 低压化学气相淀积设备 ALPHA-8C 日本 1994年 TOKYO ELECTRON LIMITED 300009450062 6"
54 RENESAS LPCVD 低压化学气相淀积设备 UL-2604-08-LS 日本 1989年 TOKYO ELECTRON LIMITED 880098 6"
55 RENESAS LPCVD 低压化学气相淀积设备 UL-2604-08-LS 日本 1990年 TOKYO ELECTRON LIMITED 40042 6"
56 RENESAS LPCVD 低压化学气相淀积设备 UL-2604-08-LS 日本 1988年 TOKYO ELECTRON LIMITED 01-MA3053 6"
57 RENESAS LPCVD 低压化学气相淀积设备 UL-2604-08-LS 日本 1993年 TOKYO ELECTRON LIMITED 280012 6"
58 RENESAS Diff 扩散炉 UL-2604-08-HS 日本 1989年 TOKYO ELECTRON LIMITED 880096 6"
59 RENESAS Diff 扩散炉 UL-2604-08-HS 日本 1988年 TOKYO ELECTRON LIMITED 01-MA3054 6"
60 RENESAS Diff 扩散炉 UL-2604-08-HS 日本 1988年 TOKYO ELECTRON LIMITED 01-MA3055 6"
61 RENESAS Diff 扩散炉 UL-2604-08-HS 日本 1989年 TOKYO ELECTRON LIMITED 880097 6"
62 RENESAS Diff 扩散炉 UL-2604-08-HS 日本 1989年 TOKYO ELECTRON LIMITED 880095 6"
63 ROHM Diff 扩散炉 VDF-615 日本 1991年 TOKYO ELECTRON LIMITED VF195152 6"
64 ROHM Diff 扩散炉 USD-6·D-8·3-7 日本 1989年 DENKO SYSTEMS INC. 821-1030 6"
65 ROHM Diff 扩散炉 USD-6·D-8·3-8 日本 1989年 DENKO SYSTEMS INC. 821-103B 6"
66 ROHM Diff 扩散炉 USD-6·D-7·3-2 日本 1989年 DENKO SYSTEMS INC. 821-103B 6"
67 ROHM Diff 扩散炉 USD-6·D-11·2-2 日本 1989年 DENKO SYSTEMS INC. 821-103B 6"
68 ROHM Diff 扩散炉 USD-6·D-12·2-1 日本 1989年 DENKO SYSTEMS INC. 821-103B 6"
69 ROHM Diff 扩散炉 USD-6·D-5·3-2 日本 1989年 DENKO SYSTEMS INC. 821-103B 6"
70 ROHM Diff 扩散炉 VDF610S 日本 1989年 TEL SAGAMI LIMITED 930070 6"
71 ASAHI Diff 扩散炉 DJ-853V 日本 1996年 Kokusai Electric Co., Ltd. DC3-10677-5 6"
72 ASAHI SPUTTER 溅射台 ECLIPSE 美国 1997年 Materials Research Corp. 48630 6"
73 ASAHI SPUTTER 溅射台 PDU-MKIV 美国 2001年 Tokyo Electron Arizona, Inc S74 6"
74 TOSHIBA SPUTTER 溅射台 Varian 3290 美国 1989年 Varian 88739-649 5"
75 ROHM RS  电阻率测试仪 RG-8 日本 1990年 NAPSON 9005-133 6"
76 ROHM Reticle paticle Ins 光刻板颗粒测试仪 VPRA-6(可能没有) 日本 2003年 Yoshida   6"
77   X-RAY 硼磷含量测试仪 Rigaku 3630 日本   RIGAKU INDUSTRIAL CORPORATION    
78 MITSUMI Epitaxial Furnace  外延炉 EGV-28GX 日本 1998 TOSHIBA MACHINE CO., LTD. 1203 6"
79 RENESAS Stepper 光刻机 NSR1505i7A Japan 1990.2 Nikon 93027 6
80 RENESAS Stepper 光刻机 NSR1505i7A Japan 1990.2 Nikon 93024 6
81 RENESAS Stepper 光刻机 NSR1505i7A Japan 1990.5 Nikon 93051 6
82 RENESAS Stepper 光刻机 NSR1505i7A Japan 1990.9 Nikon 93064 6
83 RENESAS Stepper 光刻机 NSR1505i7A Japan 1990.5 Nikon 93050 6
84 RENESAS Stepper 光刻机 NSR1505i7A Japan 1990.10 Nikon 93067 6
85 RENESAS Stepper 光刻机 NSR1505i7A Japan 1990.2 Nikon 93026 6
86 RENESAS Stepper 光刻机 NSR1755i7A Japan 1991.8 Nikon 94151 6
87 RENESAS Stepper 光刻机 NSR1755i7A Japan 1998.3 Nikon 94035 6
88 RENESAS Stepper 光刻机 NSR1755i7B Japan 1994.6 Nikon 94608 6
89 RENESAS Stepper 光刻机 NSR1755i7B Japan 1995.9 Nikon 94627 6
90 CAE Etcher 刻蚀机 Lam490 美国 1987 LAM 1652 6"
91 CAE Etcher 刻蚀机 Lam490 美国 1987 LAM 1510 6"
92 CAE Etcher 刻蚀机 Lam490 美国 1990 LAM 1726 6"
93 CAE Etcher 刻蚀机 Lam590 美国 1999 LAM 1247 6"
94 CAE Etcher 刻蚀机 Lam590 美国 1988 LAM 1656 6"
95 CAE Etcher 刻蚀机 Lam590 美国 1990 LAM 1795 6"
96 O-TEC Stepper 光刻机 NSR-2005G8C 日本 1995 Nikon 801092 5
97 O-TEC Tester 扫描电镜 S-8620 日本 1996.3 Hitachi,Ltd. 8607-05 5
98 O-TEC Coat/Deve  涂胶显影机 MARK-Vz 日本 1995.9 TEL(TOKYO ELECTRON KYUSYU LIMITED) 615411 5
99 O-TEC Metrology & Inspection 等离子刻蚀机 4420 美国 1990 LAM RESEARCH 4050, 5
100 O-TEC Diffusion 扩散炉 DJ-802V 日本 1998 国際電気株式会社 T2DC1-10981-1 6
101 O-TEC Etcher 等离子刻蚀机 DES-312-304AVL 美国 1990 Plasma System Corp. 94030 5
102 O-TEC Tester 测试仪 TP500 美国 2003 THERMA-WAVE TP5105 5
103 O-TEC Implanter 离子注入机 NV-GSD-A-160 日本 1994.6 SUMITOMO EATON NOVA CORPORATION F62 5
104 O-TEC Coat/Deve  涂胶显影机 SC-W80A-AVFG 日本 1996.12 DAINIPPON SCREEN MFG CO., LTD. 56700-2172 5
105 O-TEC Etcher 等离子刻蚀机 TE-8500SATC 日本 1996.6 TEL(東京エレクトロン株式会社) K85660 5
106 O-TEC B P Tester 硼磷含量测试仪 3620 日本 1986 Rigaku Denki Kogyo Co., Ltd. JR24003  
107 O-TEC Etcher 等离子刻蚀机 4500 美国 1990 LAM RESEARCH N/A  
108 O-TEC Etcher 等离子刻蚀机 4500 美国 1990 LAM RESEARCH 5129,  
109 O-TEC   紫外固胶机 PCU 美国 1995 FUSION PU7A345AB  
110 华润华晶 tape 贴膜机 Detaper 德国   NITTO SEIKI 2006  
111 华润华晶 tape 贴膜机 Detaper 德国   NITTO SEIKI 2007  
112 华润华晶 tape 贴膜机 Detaper 德国   TAKATORI 2008  
113 O-TEC Implanter 离子注入机 E220 美国 1996.01 ION IMPLANT SYSTEM 037282  
114 Sharp LTO 化学气相淀积设备 P-5000CVD 美国 1990.9.15 AMJ 5524 6
115 Sharp Sputter 物理气相淀积设备 Endura5500 美国 1993 AMJ 3136 6
116 Sharp Predepo 注入机 PI-9500 美国 1995.1.6 AMJ M205 6
117 Sharp stepper 光刻机 NSR-1755G7A 日本 1990.11 Nikon 96049 6
118 Sharp stepper 光刻机 NSR-1755G7A 日本 1991.08 Nikon 96155 6
119 Sharp stepper 光刻机 NSR-1755G7A 日本 1991.1 Nikon 96156 6
120 Sharp stepper 光刻机 NSR-1755G7A 日本 1990.11 Nikon 96046 6
121 Sharp stepper 光刻机 NSR-1755G7A 日本 1991.08 Nikon 96152 6
122 Sharp LTO 化学气相淀积设备 P-5000CVD 美国 1990.4.21 AMJ 5420 6
123 Sharp P-CVD 化学气相淀积设备 P-5000CVD 美国 1989.9.21 AMJ 5330 6
124 Sharp RIE(Al-Si) 等离子刻蚀机 P-5000Etch 美国 1993.5.28 AMJ 6468 6
125 Sharp RIE(Al-Si) 等离子刻蚀机 P-5000Etch 美国 1991.5.15 AMJ 6253 6
126 Sharp Thickness 膜厚测量仪 M-215 日本 1989.05 Nanometrics 0889-H6007 6
127 Sharp Thickness 膜厚测量仪 M-215 日本 1989.05 Nanometrics 0389-H6006 6
128 Sharp 全反射蛍光X線装置(TREX) 缺陷测量仪 TREX-610 日本 1995.9 TECHNOS 960E-007 6
129 Sharp αステップ測定器 探针台 P-1 美国 1990 KLA 0391-0448 6
130 Sharp シ-ト抵抗器 方块电阻测量仪 OmniMap Auto RS35C 美国 1990 KLA 950813RS3504 6
131 Sharp Diffusion 扩散炉 UL-2604-08 日本 1989.07 TOKYO ELECTRON LIMITED 920018 6
132 Sharp Diffusion 扩散炉 UL-2604-08 日本 1989.07 TOKYO ELECTRON LIMITED 920019 6
133 Sharp Diffusion 扩散炉 UL-2604-08 日本 1989.07 TOKYO ELECTRON LIMITED 920020 6
134 Renesas Etching System 刻蚀机 P-5000 美国 1998 Applid Materials 7430 5
135 Renesas Aligner 光刻机 PLA-501FA 日本 1992 Canon 2031454 5
136 Renesas Aligner 光刻机 PLA-501FA 日本 1993 Canon 2041470 5
137 Renesas Aligner 光刻机 PLA-501FA 日本 1995 Canon 305193 5
138 Renesas Aligner 光刻机 MPA-500FA 日本 1995 Canon 305194 5
139 Renesas Aligner 光刻机 MPA-500FA 日本 1995 Canon 304189 5
140 Renesas Aligner 光刻机 MPA-500FAb 日本 1996 Canon 310307 5
141 Renesas Aligner 光刻机 MPA-500FAb 日本 1995 Canon 501552 5
142 Renesas Aligner 光刻机 MPA-500FAb 日本 1996 Canon 501553 5
143 Renesas Aligner 光刻机 MPA-500FAb 日本 1996 Canon 9007667 5
144 Renesas Dicer 减薄机 DFG-841 日本 1996 Disco HW1079 5
145 Renesas Laser Marker 打标机 SL-473F 日本 1997 NEC laser Automation
(Omron Laser Front)
0014 5
146 Renesas Probing Machine 探针台 P-8 日本 1995/4 Tokyo Electron PA00815 5
147 Renesas Coater 涂胶机 SCW-636 日本 1995 DAINIPPON SCREEN MFG CO., LTD. 52700-1591 5
148 PKLS stepper  光刻机 NSR-1505G6E 日本 1989.12 Nikon 83217  
149 PKLS stepper  光刻机 NSR-1505G6E 日本 1989.04 Nikon 81462  
150 PKLS stepper  光刻机 NSR-1505G6E 日本 1989 Nikon 81411  
151 PKLS stepper  光刻机 NSR-1505G6E 日本 1989 Nikon 81269  
152 PKLS stepper  光刻机 NSR-1505G6E 日本 1988 Nikon 81239  
153 PKLS stepper  光刻机 NSR-1505G6E 日本 1988 Nikon 81186  
154 PKLS stepper  光刻机 NSR-2005i10C 日本 1994 Nikon 1004021  
155 vissay Etcher 干法刻蚀机 PRECISION5000 美国 1995 Applied Materials 4282  
156 vissay test 线宽测试仪 S-8840 日本 1997 HITACHI 9101——06  
157 vissay Sputter 物理气相淀积设备 ECLIPSE 美国 1992 MATERIAL PESEARCH 96539-822  
158 vissay Sputter 物理气相淀积设备 ECLIPSE 美国 2003 MATERIAL PESEARCH 42779  
159 ELS stepper  光刻机 NSR-2005i8C 日本 1991 Nikon 803067  
160 ELS stepper  光刻机 NSR-2005i9C 日本 1993 Nikon 904074  
161 TOYO Dicer 减薄机 DFG840 日本 1996 Disco EN1165  
162 TOYO Dicer 减薄机 DFG841 日本 2000 Disco HW1194  
163 南京佰思 stepper  光刻机 NSR-2005i9C 日本 1994 Nikon NSR629  
164 沈阳硅基 Implanter 注入机 GSD-Ⅲ-90 / / / /  
165 PKLS stepper  光刻机 NSR-1755G7A 日本 1996 kokusai Electric Co., Ltd. 96144  
166 PKLS stepper  光刻机 NSR-2005i8A 日本 1996 kokusai Electric Co., Ltd. 803099  
167 KSM Diff 扩散炉 DJ-853V 日本 1996 kokusai Electric Co., Ltd. DC1-10627-1  
168 KSM Diff 扩散炉 DJ-853V 日本 1996 kokusai Electric Co., Ltd. DC1-10634-7  
169 O-TEC CVD 化学气相淀积设备 Concept One 美国 1996 NOVELLUS 76-00071-00 6"
170 O-TEC CVD 化学气相淀积设备 Concept One 美国 2001 NOVELLUS 96-00019-00 6"
171 SMFL Implanter 离子注入机 GSD-Ⅲ-90 美国 1995 SUMITOMO EATON NOVA CORPORATION S94D0900 8"
172 E-TECH CVD 化学气相沉积设备 PRECISION5000 美国 1993.11.17 Applied Materials 4142  
173 E-TECH CVD 化学气相沉积设备 PRECISION5000 美国 1992.03.31 Applied Materials CA5788  
174 大庆 Stepper 光刻机 NSR-1505G7E 日本   Nikon PA13  
175 大庆 Stepper 光刻机 NSR-1505G6E 日本   Nikon PA75  
176 大庆 Stepper 光刻机 NSR-1505G6E 日本   Nikon PA23  
177 大庆 Stepper 光刻机 NSR-1505G6E 日本   Nikon PA31  
178 大庆 Stepper 光刻机 NSR-1505G6E 日本   Nikon PA27  
179 大庆 Stepper 光刻机 NSR-1505G6E 日本   Nikon PA17  
180 大庆 Stepper 光刻机 NSR-1505G6E 日本   Nikon PA06  
181 大庆 Stepper 光刻机 NSR-1505G6E 日本   Nikon PA09  
182 大庆 Stepper 光刻机 NSR-1505G6E 日本   Nikon PA29  
183 大庆 Stepper 光刻机 NSR-1505G6E 日本   Nikon PA07  
184 大庆 Stepper 光刻机 NSR-1505G6E 日本   Nikon PA32  
185 大庆 Stepper 光刻机 NSR-1505G6E 日本   Nikon PA26  
186 大庆 Stepper 光刻机 NSR-1505G6E 日本   Nikon PA14  
187 大庆 Stepper 光刻机 NSR-1505G6E 日本   Nikon PA01  
188 大庆 Stepper 光刻机 NSR-1505G6E 日本   Nikon ST15  
189 大庆 Stepper 光刻机 NSR-1505G6E 日本   Nikon ST14  
190 大庆 Stepper 光刻机 NSR-1505G6E 日本   Nikon L01  
191 大庆 Stepper 光刻机 NSR-1505G6E 日本   Nikon L01  
192 四川广义 Etcher 干法刻蚀机 Lam9600SE 美国 1996 LAM RESEARCH 4563  
193 四川广义 Etcher 干法刻蚀机 Lam9600SE 美国 1996 LAM RESEARCH 4571  
194 四川广义 Sputter 物理气相淀积设备 ECLIPSE       SCGY01  
195 四川广义 Diff 扩散炉 DD-802V       SCGY02(15227)  
196 丹阳德荣 Sputter 溅射台 MRC       21217  
197 丹阳德荣 Sputter 溅射台 MRC       19994  
198 山东元鸿 Stepper 光刻机 I9C   1992 Nikon 904026  
199 山东元鸿 Stepper 光刻机 I9C   1993 Nikon 904069  
200 山东元鸿 Stepper 光刻机 I11D     Nikon 1106045  
201 山东元鸿 Stepper 光刻机 I11D     Nikon 1105169  
202 丹阳德荣 Etcher 刻蚀机 Lam9600SE 美国   LAM RESEARCH 4662  
203 丹阳德荣 Etcher 刻蚀机 Lam9600SE 美国   LAM RESEARCH 4685  
204 扬州广润 Aligner 光刻机 PLA-501FA 日本   Canon 2031455  
                   
210 ELS Stepper 光刻机 NSR-1755G7A 日本 1990 Nikon 96076  
211 玄亨(韩国) Stepper 光刻机 NSR-2005i10C 日本   Nikon 1004043  
212 玄亨(韩国) Stepper 光刻机 NSR-1755G7A 日本   Nikon 96210  
213 玄亨(韩国) Stepper 光刻机 NSR-1755G7A 日本   Nikon 96267  
214 玄亨(韩国) Stepper 光刻机 NSR-1755G7A 日本   Nikon 96258  
215 南京佰思 Stepper 光刻机 NSR-1755G7A 日本   Nikon 96116  
216 南京佰思 Stepper 光刻机 NSR-2005i10C       1004091  
217 玄亨(韩国) Stepper 光刻机 NSR-2205i11D       1105373  
218 CAE Stepper 光刻机 NSR2005I9C 日本 1993 Nikon 904064  
219 CAE Track 涂胶显影机 DNS60 日本 1993 DAINIPPON SCREEN MFG CO., LTD 53700-6367 6"
220 CAE Stepper 光刻机 NSR-2005i8A 日本 1993 Nikon 803190  
221 杭州旻芯 Stepper 光刻机 NSR-2005i10C 日本   Nikon 1004027  
222 杭州旻芯 Stepper 光刻机 NSR-2005i10C 日本   Nikon 1004014  
223 锐创 test 电阻测试仪 RS55       2003  
224 INTERTEC Stepper 光刻机 NSR-2005i10C 日本 1994 Nikon 1006004  
225 CAE Coat/Deve  涂胶显影机 MARK8 日本 1996 TOKYO ELECTRON KYUSHU LIMITED 826836  
226 CAE Coat/Deve  涂胶显影机 MARK8 日本 1995 TOKYO ELECTRON KYUSHU LIMITED 825355  
227 昆山维伊尔 Coat/Deve  涂胶显影机 MARK8 日本 1995 TOKYO ELECTRON KYUSHU LIMITED 825355KS  
228 昆山维伊尔 Coat/Deve  涂胶显影机 MARK8 日本 1995 TOKYO ELECTRON KYUSHU LIMITED 826836KS  
229 O-TEC Stepper 光刻机 NSR-2205il2D 日本 2000 Nikon 1208503  
230 O-TEC Coat/Deve  涂胶显影机 Mark7 日本 1997 TOKYO ELECTRON KYUSHU LIMITED 7171130  
231 O-TEC Coat/Deve  涂胶显影机 Mark7 日本 1997 TOKYO ELECTRON KYUSHU LIMITED 7171131  
232 O-TEC Stepper 光刻机 MPA-500FA 日本 1982 Canon 207083  
233 O-TEC Stepper 光刻机 MPA-500FA 日本 1983 Canon 311314  
234 O-TEC Stepper 光刻机 MPA-500FA 日本 1983 Canon 311316  
235 O-TEC Stepper 光刻机 MPA-500FA 日本 1984 Canon 409474  
236 O-TEC Stepper 光刻机 MPA-500FA 日本 1984 Canon 407427  
237 O-TEC Stepper 光刻机 MPA-500FA 日本 1984 Canon 403465  
238 O-TEC Stepper 光刻机 PLA-501FA 日本 1983 Canon 3121905  
239 SMFL Implanter 注入机 GSD-Ⅲ-90 日本 1995 Sumltomo Eaton Nova Corporation 154  
240 MH SEMI Etcher 干法刻蚀机 9400 美国 1995 LAM RESEARCH 4638  
241 MH SEMI Etcher 干法刻蚀机 9600SE 美国 1995 LAM RESEARCH 4571  
242 MH SEMI Etcher 干法刻蚀机 4720 美国 1994 LAM RESEARCH 3915  
243 INTERTWC Implanter 注入机 E220EHP 美国 1999 Varian ES193564  
244 O-TEC Diff 扩散炉 DJ-802V 日本 1990 国际电器株式会社 B1DD1-00882  
245 O-TEC Diff 扩散炉 DJ-802V 日本 1989 国际电器株式会社 D4VK11235  
246 Zhongke Xinyuan(HongKong) Stepper 光刻机 NSR-2005i8A 日本 1992 Nikon 803008  
247 CAE Implanter 注入机 NV-GSD-A-160 美国 1993 EATON 183  
248 O-TEC Implanter 注入机 E220     ION IMPLANT SYSTEM 00370400  
249 大庆 Stepper 光刻机 NSR-1505G6E     Nikon DQ001  
250 大庆 Stepper 光刻机 NSR-1505G6E     Nikon DQ002  
251 大庆 Stepper 光刻机 NSR-1505G6E     Nikon DQ003  
252 大庆 Stepper 光刻机 NSR-1505G6E     Nikon DQ004  
253 大庆 Stepper 光刻机 NSR-1505G6E     Nikon DQ005  
254 沈阳空港 Sputter 溅射台 MRC          
255 Onsemi Diff 扩散炉 IW-6 日本 1994 TEL 100009425007  
256 Onsemi Diff 扩散炉 IW-6 日本 1995 TEL 100009555021  
257 Onsemi Track 涂胶显影机 SCW-636-BV 美国 1988 DNS 88700-1301  
258 Onsemi Stepper 光刻机 NSR-2005G8C 日本 1993 Nikon 801069  
259 Onsemi Stepper 光刻机 NSR-2005G8C 日本 1995 Nikon 801093  
260 Onsemi CVD 等离子刻蚀机 CONCEPT ONE 美国 1989 NOVELLUS 89-30-C0402  
261 Onsemi CVD 等离子刻蚀机 CONCEPT ONE 美国 1999 NOVELLUS 99-40-C1822  
262 BOSCH Implanter 注入机 NV6200AV 美国 1993 EATON 764  
263 BOSCH Implanter 注入机 NV6200AV 美国 1995 EATON 793  
264 大庆 Diff 扩散炉 UL-2604-08-H       T06  
265 大庆 Diff 扩散炉 UL-2604-08-H       T07  
266 大庆 Diff 扩散炉 UL-2604-08-H       T08  
267 大庆 Diff 扩散炉 UL-2604-08-H       T09  
268 大庆 Diff 扩散炉 UL-2604-08-H       T10  
269 大庆 Diff 扩散炉 UL-2604-08-H       T11  
270 大庆 Diff 扩散炉 UL-2604-08-H       T01  
271 全翰可 Stepper 光刻机 NSR-1505G6E 日本   Nikon 81304  
272 全翰可 Stepper 光刻机 NSR-2005i10C 日本   Nikon 1004015  
273 O-TEC SPUTTER 溅射台 XM-90 美国 1992 Varian 88222-081  
274 亚曼光电 Stepper 光刻机 NSR-2005i9C 日本 1996 Nikon 4571  
275 MH SEMI Etcher 干法刻蚀机 Lam9600 美国   LAM RESEARCH 4303  
276 MH SEMI Etcher 干法刻蚀机 Lam9400 美国   LAM RESEARCH 4534  
277 MH SEMI Etcher 干法刻蚀机 Lam9400 美国   LAM RESEARCH 4343  
278 MH SEMI Etcher 干法刻蚀机 Lam9400 美国   LAM RESEARCH 4480  
279 MH SEMI P-CVD 化学气相淀积设备 P-5000CVD 美国 1991 Applied Materials 5662  
280 MH SEMI P-CVD 化学气相淀积设备 P-5000CVD 美国 1991 Applied Materials 5730  
281 MH SEMI P-CVD 化学气相淀积设备 WJ999 美国 2004 WATKINS-JOHNSON 4659  
282 PKLS Stepper 光刻机 NSR-2005i8A 日本 1992 Nikon 803191  
283 PKLS Stepper 光刻机 NSR-2005i8A 日本 1992 Nikon 803187  
284 瀚柏科技 Stepper 光刻机 NSR-1505G6E 日本 1998 Nikon 81325  
285 瀚柏科技 Stepper 光刻机 NSR-1755i7B 日本 1986 Nikon 94634  
286 大分 Stepper 光刻机 NSR-2005i9C 日本 1992 Nikon 904012  
287 大分 Stepper 光刻机 NSR-1755G7A 日本 1990 Nikon 96159  
288 大分 Stepper 光刻机 NSR-1755G7A 日本 1993 Nikon 96301  
289 大分 Track 涂胶显影机 CLEAN TRACK 日本 1993 TEL 523806  
290 大分 Track 涂胶显影机 CLEAN TRACK 日本 1993 TEL 523840  
291 山东元鸿 Stepper 光刻机 NSR-2005i9C 日本   Nikon 904198  
292 山东元鸿 Stepper 光刻机 NSR-2005i10C 日本   Nikon 1006035  
293 山东元鸿 Stepper 光刻机 NSR-2205i11C 日本 1996 Nikon 1106070  
294 SAT Stepper 光刻机 NSR-2005i10C 日本 1994 Nikon 1004095  
295 丹阳德荣 CVD 等离子刻蚀机 CONCEPT ONE 美国   NOVELLUS 96-06-2071  
296 丹阳德荣 CVD 等离子刻蚀机 CONCEPT ONE 美国   NOVELLUS 91-13-515  
297 山东元鸿 Stepper 光刻机 NSR-2205i11C 日本   Nikon 1105310  
298 山东元鸿 Stepper 光刻机 NSR-2205i11C 日本   Nikon 1105583  
299 山东元鸿 Stepper 光刻机 NSR-2205i11C 日本   Nikon 1105555  
300 O-TEC Scrubber 刷片机 SP-W621 日本 1997 DAINIPPON SCREEN MFG CO., LTD 56530-1088  
301 O-TEC Diff 扩散炉 IW-6 日本 1996 TOKYO ELECTRON LIMITED 100009695044  
302 O-TEC Diff 扩散炉 IW-6 日本 1996 TOKYO ELECTRON LIMITED 1000096Y5046  
303 O-TEC Diff 扩散炉 IW-6 日本 1996 TOKYO ELECTRON LIMITED 100009745003  
304 O-TEC Stepper 光刻机 MPA-600FA 日本 1992 Canon 810198  
305 O-TEC Stepper 光刻机 MPA-600FA 日本 1992 Canon 902253  
306 O-TEC Stepper 光刻机 PLA-600FA 日本 1990 Canon 92120802  
307 O-TEC Stepper 光刻机 PLA-600FA 日本 1990 Canon 8060711  
308 大分 Track 涂胶显影机 CLEAN TRACK 日本 1990 TEL 520300  
309 大分 Track 涂胶显影机 CLEAN TRACK 日本 1993 TEL 523914  
310 大分 Track 涂胶显影机 CLEAN TRACK 日本 1990 TEL 520273  
311 大分 Track 涂胶显影机 CLEAN TRACK 日本 1990 TEL 520277  
312 大分 Track 涂胶显影机 CLEAN TRACK 日本 1990 TEL 520274  
313 大分 Track 涂胶显影机 CLEAN TRACK 日本 1990 TEL 520168  
314 大分 Stepper 光刻机 NSR-1755G7A 日本 1990 Nikon 96147  
315 大分 Stepper 光刻机 NSR-1755G7A 日本 1990 Nikon 96164  
316 鹿儿岛SONY Diff 扩散炉 DJ-833V 日本 1996 国际电器株式会社 T1DC1-02020-1  
317 鹿儿岛SONY Diff 扩散炉 DJ-833V 日本 1996 国际电器株式会社 T1DC1-00981  
318 鹿儿岛SONY Sputter 物理气相淀积设备 ECLIPSE 美国 2009 Materials Research Corp. 22362  
319 兆远 Stepper 光刻机 NSR-2205i11D 日本   Nikon 1105134  
320 兆远 Stepper 光刻机 NSR-2205i11C 日本   Nikon 1106018  
321 兆远 Stepper 光刻机 NSR-2205i11D 日本   Nikon 1105517  
322 大分 Track 涂胶显影机 CLEAN TRACK 日本 1994 TEL 614190  
323 大分 Track 涂胶显影机 CLEAN TRACK 日本 1990 TEL 520276  
324 大分 Track 涂胶显影机 CLEAN TRACK 日本 1992 TEL 522764  
325 大分 Track 涂胶显影机 CLEAN TRACK 日本 1990 TEL 520162  
326 大分 Stepper 光刻机 NSR-1755G7A 日本 1990 Nikon 96157  
327 CAE Etcher 干法刻蚀机 Lam9400 美国 1995 LAM RESEARCH 9212469  
328 兆远 Stepper 光刻机 NSR-2005i9C 日本   Nikon 904242  
329 兆远 Stepper 光刻机 NSR-2005i10C 日本   Nikon 1004010  
330 兆远 Stepper 光刻机 NSR-2205i11C 日本   Nikon 1106021  
331 德瑞恩 Dicer 减薄机 DFG841 日本   Disco DRE001